Einteilige Patent™

Das einteilige PATENT-Implantat ist ein enossales, rotationssymmetrisches Implantat aus Zirkondioxid. Es kann in allen Knochenqualitäten des Ober- und Unterkiefers (D1–D4) mit und ohne Augmentation eingesetzt werden. PATENT-Implantate sind auf Knochenniveau zu inserieren. Durch unterschiedliche Durchmesser und Längen ist ein weitgefächertes Indikationsspektrum gegeben. Sie eignen sich zur Insertion in den bereits langzeitig abgeheilten Kieferknochen (Spätimplantation), zur verzögerten Insertion (6–8 Wochen nach Zahnextraktion) und zur Sofortimplantation (direkt nach Zahnextraktion – unter entsprechenden Bedingungen).
Beachten Sie bitte die Indikationseinschränkungen in der jeweiligen Gebrauchsanleitung.
Material: Zirkondioxid